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光刻機(jī)之父林本堅(jiān)發(fā)聲,中國芯片可自主研發(fā)5納米,美國攔不住

2023-11-02 來源:柏銘007
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關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 芯片 ASML

外媒報(bào)道指早已退休的臺(tái)積電前研發(fā)副總林本堅(jiān)接受采訪的時(shí)候表示,美國無法阻止中國研發(fā)先進(jìn)工藝,還認(rèn)為中國可以利用現(xiàn)有設(shè)備研發(fā)更先進(jìn)的5納米工藝,他的表態(tài)讓外媒相當(dāng)吃驚。



林本堅(jiān)如此說法在中國的華為研發(fā)出相當(dāng)于7納米工藝的麒麟9000S之后,他認(rèn)為中國芯片行業(yè)展現(xiàn)了顯著的韌性和獨(dú)創(chuàng)性,因此認(rèn)為中國芯片行業(yè)不會(huì)局限于7納米工藝,更可能實(shí)現(xiàn)5納米工藝。


林本堅(jiān)被譽(yù)為浸潤式光刻機(jī)之父,當(dāng)年日本壟斷了光刻機(jī)行業(yè),佳能、尼康合計(jì)占光刻機(jī)市場近八成的市場份額,不過這兩家日本企業(yè)研發(fā)的光刻機(jī)為干式光刻機(jī),林本堅(jiān)則提出了浸潤式光刻機(jī)。


日本光刻機(jī)企業(yè)基于自己的利益并不認(rèn)同林本堅(jiān)的浸潤式光刻機(jī)技術(shù),當(dāng)時(shí)陷入困境的ASML找上門來,于是臺(tái)積電和ASML合作研發(fā)浸潤式光刻機(jī),2008年ASML的浸潤式光刻機(jī)已取得主導(dǎo)地位,日本的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)由此迅速敗落。


與ASML的合作不僅改變了光刻機(jī)行業(yè),臺(tái)積電也借此實(shí)現(xiàn)了飛躍,芯片制造工藝取得了突破,迅速成為芯片代工行業(yè)的佼佼者,林本堅(jiān)由此被譽(yù)為浸潤式光刻機(jī)之父。



中國芯片行業(yè)這幾年一直受制于光刻機(jī),在芯片制造的諸多環(huán)節(jié)除了光刻機(jī)之外都已取得宏達(dá)突破,刻蝕機(jī)更已達(dá)到5納米水平,居于全球領(lǐng)先水平。


這些環(huán)節(jié)的突破,證明了中國芯片行業(yè)在技術(shù)方面具有扎實(shí)的基礎(chǔ),有信心有能力推進(jìn)國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展。


正是麒麟9000S的發(fā)布,外媒認(rèn)為中國在光刻機(jī)技術(shù)方面取得了重大突破,這對(duì)于外媒可謂是震驚的消息,畢竟光刻機(jī)是一款非常復(fù)雜的機(jī)器,ASML的EUV光刻機(jī)需要10萬個(gè)部件,需要全球5000家企業(yè)合作,而中國卻能僅靠自己的產(chǎn)業(yè)鏈實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)量產(chǎn)。


美國也試圖借光刻機(jī)卡中國芯片的脖子,拉攏荷蘭阻止對(duì)中國出口先進(jìn)的光刻機(jī),不過隨著華為麒麟9000S的發(fā)布,荷蘭突然在9月份給ASML許可,允許ASML對(duì)中國出口更先進(jìn)的2000i光刻機(jī)。



林本堅(jiān)的說法,讓外媒重新認(rèn)識(shí)中國芯片產(chǎn)業(yè),畢竟他對(duì)光刻機(jī)的技術(shù)研發(fā)有更深刻的認(rèn)識(shí),作為臺(tái)積電前技術(shù)研發(fā)副總更是理解芯片制造過程,他對(duì)中國芯片產(chǎn)業(yè)的肯定更有可信性。


光刻機(jī)是現(xiàn)有硅基芯片技術(shù)的重要設(shè)備,硅基芯片技術(shù)由美國主導(dǎo),中國在硅基芯片技術(shù)上的研發(fā)只能是跟隨,而中國也深刻明白這一點(diǎn)。


為了實(shí)現(xiàn)彎道超車,中國除了繼續(xù)研發(fā)硅基芯片技術(shù)之外,也在其他芯片技術(shù)方面推進(jìn),例如小芯片技術(shù)、量子芯片技術(shù)等,近日清華大學(xué)又公布了一項(xiàng)光電模擬芯片(ACCEL),都是中國芯片在新技術(shù)方面的探索。



筆者相信,中國芯片不會(huì)永遠(yuǎn)受制于美國技術(shù),必然在未來開辟芯片技術(shù)新路線,彎道超車有很大的可能性,到那時(shí)候中國芯片將突破美國技術(shù)的桎梏,真正形成自己的芯片技術(shù)體系,外媒因此認(rèn)為美國擋不住中國芯片發(fā)展的腳步。



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