中商情報網(wǎng)訊：光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移。

市場現(xiàn)狀

1.市場規(guī)模

目前，我國光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈雛形初現(xiàn)，從上游原材料、中游成品制造到下游應用均在逐步完善，且隨著下游需求的逐漸擴大，光刻膠市場規(guī)模顯著增長。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029全球及中國光刻膠和光刻膠輔助材料行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)研及投資前景分析報告》顯示，我國光刻膠市場規(guī)模由2017年58.7億元增至2022年98.6億元，年均復合增長率為10.9%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預測，預計2023年我國光刻膠市場規(guī)?？蛇_109.2億元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

2.產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

光刻膠可以分為面板光刻膠（LCD光刻膠）、PCB光刻膠和半導體光刻膠（芯片光刻膠），其中半導體光刻膠生產(chǎn)難度較高。全球光刻膠產(chǎn)品占比中，三種光刻膠生產(chǎn)結(jié)構(gòu)較為均衡，相比之下，我國光刻膠行業(yè)發(fā)展起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中在PCB光刻膠等中低端產(chǎn)品，其中PCB光刻膠占比達94%，而半導體光刻膠等高端產(chǎn)品仍需大量進口，自給率較低。未來隨著光刻膠企業(yè)生產(chǎn)能力的提高，我國光刻膠生產(chǎn)結(jié)構(gòu)將會進一步優(yōu)化。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

發(fā)展前景

1.政策鼓勵支持行業(yè)發(fā)展

為鼓勵光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展、突破產(chǎn)業(yè)瓶頸，我國出臺多項政策支持半導體行業(yè)發(fā)展。如《國務院關(guān)于印發(fā)新時期促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展若干政策的通知》中提出，包括生產(chǎn)光刻膠在內(nèi)的集成電路產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵原材料、零配件企業(yè)被納入享受稅收優(yōu)惠政策的清單。

2.外部環(huán)境促進產(chǎn)業(yè)發(fā)展

日韓貿(mào)易摩擦啟示中國在中美貿(mào)易摩擦下急需半導體光刻膠自主可控，為鼓勵光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展、突破產(chǎn)業(yè)瓶頸，我國出臺了多項政策支持半導體行業(yè)發(fā)展。為應對國外技術(shù)出口管制風險，多家中國半導體企業(yè)也增加了材料國產(chǎn)化率要求，增加國產(chǎn)半導體光刻膠進入量產(chǎn)產(chǎn)線進行測試驗證的機會，加快了國產(chǎn)半導體光刻膠研發(fā)進度。

3.國內(nèi)企業(yè)積極布局光刻膠市場

隨著國產(chǎn)化推進，本土企業(yè)技術(shù)水平的不斷提升，我國光刻膠產(chǎn)品研發(fā)不斷增加，技術(shù)專利申請量上升，多家企業(yè)積極布局光刻膠市場。國內(nèi)企業(yè)如南大光電在ArF光刻膠產(chǎn)品領域已取得一定進展，繼續(xù)加快ArF光刻膠產(chǎn)業(yè)化步伐；晶瑞電材KrF光刻膠生產(chǎn)及測試線已經(jīng)基本建成，加強在ArF高端光刻膠領域的突破；目前徐州博康研發(fā)、生產(chǎn)的光刻膠產(chǎn)品主要包括6款ArF光刻膠、13款KrF光刻膠、11款Iline光刻膠，另有60多款IC光刻膠處于研發(fā)改進階段；東陽華芯擬在浙江省東陽市投資建設全新的“年產(chǎn)8000噸光刻材料新建項目”，生產(chǎn)光刻膠及其配套試劑等。