眾所周知，目前芯片的制造流程中，光刻機是必不可少的設(shè)備，且從成本來看，光刻機占所有半導體設(shè)備成本的20-25%。

但是大家也清楚，當前在光刻機領(lǐng)域，ASML是一家獨大，特別是EUV光刻機，只有ASML能夠生產(chǎn)，而在尖端一點的DUV光刻上面，也是ASML占優(yōu)，佳能、尼康等品牌，主要占的是低檔市場。

如上圖所示，這是機構(gòu)統(tǒng)計的2021年前道光刻機出貨量情況，大家可以看到高檔的EUV光刻機，ASML完全壟斷，低檔尼康、佳能有一定的份額。

而中國大量需要光刻機，特別是EUV光刻機，這就造成了市場與需求的不匹配，但ASML也沒辦法啊。

所以其它廠商有一個非常大的機會，那就是搞定EUV光刻機，然后賣給中國，那會是巨大的市場。

不過，要掌握EUV光刻機技術(shù)，可不容易，因為ASML造EUV光刻機，是整合了全球的技術(shù)，美國的光源、德國的鏡片、英國的真空腔，可以說是舉全球之力完成的。

雖然尼康、佳能、上海微電子都有光刻機，但要搞定EUV光刻機，估計是沒太多辦法的，ASML攢局的能力太強了，已經(jīng)將利益鏈捆綁在一起了。

為此，這要怎么辦呢？當然就要換道超車了，比如佳能，知道在EUV上是不可能打敗ASML的，所以一直押注納米壓印光刻（NIL）技術(shù)。

所謂NIL技術(shù)，是將三維結(jié)構(gòu)的掩膜壓在晶圓的感光材料上，同時照射光線完成一次性轉(zhuǎn)印，被稱為是最有前景的光刻技術(shù)之一。

目前在NIL的專利上，佳能一支獨秀，遠超其它任何廠商，并且佳能的NIL光刻機不僅僅是停留在紙面上，而是已經(jīng)有有生產(chǎn)出來了，在2021年就有了成品，并且被鎧俠應用于NAND閃存的生產(chǎn)。

佳能近日表示，接下來會研發(fā)新一代的NIL光刻機，新一代的NIL光刻機，有可能應用于28nm甚至14nm及以下的工藝。

值得大家注意的是，目前NIL技術(shù)，基本上都是日系廠商掌握，并不需要依賴美國、歐洲等的產(chǎn)業(yè)鏈，也就是說NIL光刻機，日本一旦生產(chǎn)出來，可以不聽美國的，不受美國的長臂管轄，也意味著佳能一定生產(chǎn)出來，是可以賣給中國的。

當然現(xiàn)在的問題是，能夠媲美EUV光刻機的NIL光刻機，究竟會在什么時候面市，如果佳能能夠?qū)崿F(xiàn)這個技術(shù)，全球的半導體格局都有可能生變。

一旦媲美EUV光刻機的NIL光刻機面市，以ASML為中心，以為美國意志為體現(xiàn)的的先進工藝制程，可能就再也不聽美國的了，會迎來蓬勃發(fā)展，可能全球都在盼望著佳能的大動作，特別是中國。